پلاٹینم چڑھانا موٹائی اور مزاحمیت کے درمیان کیا تعلق ہے؟ --.علم n

1. PEM الیکٹرولیسس ہائیڈروجن کی پیداوار میں مزاحمت ایک اہم پیرامیٹر کیوں ہے؟

پی ای ایم الیکٹرولیسس ہائیڈروجن کی پیداوار کے عمل میں، پلاٹینم لیپت ٹائٹینیم فیلٹ کو اینوڈ ڈفیوژن لیئر میٹریل کے طور پر استعمال کیا جاتا ہے، اور اس کی مزاحمت ایک کلیدی پیرامیٹر ہے جس کا پتہ لگانے اور کنٹرول کرنے کی ضرورت ہے۔ اہم وجوہات درج ذیل ہیں:

الیکٹرولیسس کی کارکردگی کو متاثر کرتا ہے۔

اگر پلاٹینم لیپت ٹائٹینیم کی مزاحمت بہت زیادہ ہے، تو یہ الیکٹرولیٹک سیل کی اندرونی مزاحمت میں اضافہ کرے گا، الیکٹرولیسس کی کارکردگی کو کم کرے گا، اور اضافی توانائی کے نقصان کا سبب بنے گا۔ لہذا، الیکٹرولیسس کی کارکردگی کو بہتر بنانے کے لیے پلاٹینم لیپت ٹائٹینیم کی مزاحمت کو کم سطح پر کنٹرول کرنے کی ضرورت ہے۔

الیکٹرولیسس وولٹیج کو متاثر کریں۔

الیکٹرولیٹک سیل کا آپریٹنگ وولٹیج اندرونی مزاحمت کے متناسب ہے۔ پلاٹینم لیپت ٹائٹینیم کی ضرورت سے زیادہ اعلی مزاحمت کو زیادہ الیکٹرولیسس وولٹیج کی ضرورت ہوگی اور سسٹم کی توانائی کی کھپت میں اضافہ ہوگا۔

الیکٹروڈ رد عمل کینیٹکس کو متاثر کرتا ہے۔

انوڈ ڈفیوژن پرت کے طور پر، پلاٹینم لیپت ٹائٹینیم کی مزاحمتی صلاحیت الیکٹروڈ ری ایکشن کے حرکیاتی عمل کو متاثر کرے گی، جیسے الیکٹران ٹرانسفر، گیس ڈفیوژن، وغیرہ، اس طرح الیکٹرولیسس ری ایکشن کی شرح کو متاثر کرتی ہے۔

کوٹنگ کے معیار کا اندازہ کریں۔

پلاٹینم لیپت ٹائٹینیم کی مزاحمتی صلاحیت کی جانچ بالواسطہ طور پر کوٹنگ کی یکسانیت اور سالمیت کا اندازہ لگا سکتی ہے۔ غیر معمولی مزاحمت کا مطلب یہ ہو سکتا ہے کہ چڑھانا عیب دار یا ناہموار ہے۔

خلاصہ طور پر، پلاٹینم لیپت ٹائٹینیم محسوس کی مزاحمتی صلاحیت کا پتہ لگانا اور کنٹرول کرنا PEM الیکٹرولائٹک ہائیڈروجن کی پیداوار کی کارکردگی کو بہتر بنانے، نظام کی توانائی کی کھپت کو کم کرنے، اور انوڈ ڈفیوژن پرت کی کارکردگی کو یقینی بنانے کے لیے فائدہ مند ہے۔

2. پلاٹینم چڑھانے سے پہلے اور بعد میں مزاحمتی کمی میں تبدیلی سے کن عوامل کا تعلق ہے؟

پلاٹینم کی اعلی چالکتا

پلاٹینم ایک قیمتی دھات ہے جس میں انتہائی اعلی برقی چالکتا ہے، جو ٹائٹینیم سے کہیں زیادہ ہے۔ ٹائٹینیم کی سطح پر پلاٹینم چڑھانے کے بعد، پلاٹینم کی تہہ کی موجودگی الیکٹران کی مجموعی چالکتا کو بہت زیادہ بڑھاتی ہے، اس طرح مزاحمتی صلاحیت میں کمی آتی ہے۔

کوٹنگ کی موٹائی

پلاٹینم کی کوٹنگ جتنی موٹی ہوگی، ترسیلی راستہ ہموار ہوگا اور مزاحمتی صلاحیت اتنی ہی کم ہوگی۔

کوٹنگ کی یکسانیت

کوٹنگ میں اچھی یکسانیت ہے اور یہ اعلی مزاحمتی علاقوں کے وجود سے بچنے کے لیے ایک مسلسل کوندکٹو نیٹ ورک بنا سکتا ہے، اس طرح مجموعی طور پر کم مزاحمت حاصل کر سکتا ہے۔ اس کے برعکس، ناہموار کوٹنگ مزاحمت کو بڑھانے کا سبب بنے گی۔

سبسٹریٹ کی سطح کی حالت

ٹائٹینیم محسوس شدہ سبسٹریٹ کی سطح کی کھردری اور نقائص کوٹنگ کی چپکنے اور یکسانیت کو متاثر کرے گی، اس طرح حتمی مزاحمت کو متاثر کرے گی۔ سطح کی تیاری کا معیار ایک اہم عنصر ہے۔

کوٹنگ کے عمل کے پیرامیٹرز

کوٹنگ کے عمل کے پیرامیٹرز کی اصلاح جیسے غسل کا ارتکاز، موجودہ کثافت، اور درجہ حرارت کوٹنگ کا مثالی معیار حاصل کرنے میں مدد مل سکتی ہے اور اس طرح مزاحمتی صلاحیت کو کم کیا جا سکتا ہے۔

عام طور پر، پلاٹینم لیپت ٹائٹینیم کی مزاحمتی صلاحیت میں کمی بنیادی طور پر پلاٹینم کی اعلی چالکتا کی وجہ سے ہے، اور کوٹنگ کی موٹائی، یکسانیت، میٹرکس کی حالت، اور عمل کے پیرامیٹرز جیسے بہت سے عوامل سے گہرا تعلق ہے۔

3. پلاٹینم چڑھانا موٹائی اور مزاحمتی ڈراپ ویلیو کے درمیان تعلق

1. پلاٹینم لیپت ٹائٹینیم کی کوٹنگ کی موٹائی اور اس کی مزاحمتی صلاحیت میں کمی کی قدر کے درمیان واضح تعلق ہے۔ عام طور پر، کوٹنگ جتنی موٹی ہوگی، مزاحمتی کمی اتنی ہی زیادہ ہوگی۔

2. مطالعات سے پتہ چلتا ہے کہ پلاٹینم چڑھایا پرت کی موٹائی میں ہر 1 μm اضافے کے لیے، پلاٹینم چڑھایا ٹائٹینیم کی مزاحمتی صلاحیت تقریباً 10% تک کم ہو سکتی ہے۔ اس کی وجہ یہ ہے کہ ایک موٹی کوٹنگ زیادہ مسلسل اور مکمل ترسیلی نیٹ ورک تشکیل دے سکتی ہے، جو الیکٹرانوں کے لیے ایک ہموار ترسیل کا راستہ فراہم کرتی ہے، اس طرح مجموعی مزاحمت کو کم کرتی ہے۔

3. تاہم، کوٹنگ کی موٹائی میں اضافہ کچھ محدود عوامل سے بھی متاثر ہوتا ہے، جیسے کہ عمل کے طریقے، مواد کی کھپت، اور مزاحمتی ضروریات۔ لہذا، اصل پیداوار میں، مختلف عوامل کا وزن کرنا اور مثالی مزاحمتی سطح حاصل کرنے کے لیے کوٹنگ کی مناسب موٹائی کا انتخاب کرنا ضروری ہے۔

4. کوٹنگ کی موٹائی کے علاوہ، کوٹنگ کی یکسانیت، سبسٹریٹ کی سطح کی حالت، پلیٹنگ سلوشن کا ارتکاز، موجودہ کثافت اور عمل کے دیگر پیرامیٹرز بھی پلاٹینم لیپت ٹائٹینیم کی مزاحمت کو متاثر کریں گے۔ . صرف تمام متاثر کن عوامل پر جامع غور کرنے سے ہی ہم مزاحمتی صلاحیت کو سب سے زیادہ حد تک کم کر سکتے ہیں اور پلاٹینم لیپت ٹائٹینیم کی کارکردگی کو بہتر بنا سکتے ہیں جسے اینوڈ ڈفیوژن پرت کے طور پر محسوس کیا جاتا ہے۔

4. ہمارے پروڈکٹ کا ڈیٹا

نمونہ 1: کٹنگ فائبر ٹائٹینیم فیلٹ (پوراسٹی 60%~70%، سائز 0.4*30*30mm)، پلاٹینم کوٹنگ کی موٹائی 0.3 مائکرون، درج ذیل خصوصیات:

PEM1

PEM2

پلاٹینم چڑھانے سے پہلے مزاحمتی قدر: 0.28 ohm·cm (Ω·cm)

پلاٹینم چڑھانے کے بعد مزاحمتی قدر: 0.24 ohm·cm (Ω·cm)

آخر میں:

ریزسٹویٹی ڈراپ ویلیو=(پلیٹنگ سے پہلے اوسط مزاحمتی - چڑھانے کے بعد اوسط مزاحمت) / چڑھانے سے پہلے اوسط مزاحمت

مزاحمتی کمی کی قدر {{0}} (0۔{2}}.24)/0۔{5}}.3%

پلاٹینم چڑھانے سے پہلے اور بعد میں مزاحمت میں 14.3 فیصد کمی واقع ہوئی۔

نمونہ 2، تیار کردہ فائبر ٹائٹینیم فیلٹ (پوراسٹی 60%~70%، سائز 0.4*40*40mm)، پلاٹینم کوٹنگ کی موٹائی 0.5 مائکرون، جس کی خصوصیات مندرجہ ذیل ہیں:

PEM 3

PEM4

مزاحمتی ٹیسٹ کے نتائج درج ذیل ہیں:

پلاٹینم چڑھانا سے پہلے مزاحمت:

پروجیکٹ: ڈراون ٹائٹینیم فائبر محسوس ہوا Thk{{0}}.4mmL40mmW40mm (نمبر: BARE TI-1-1)، porosity: 60%~70%، اوسط مزاحمتی ٹیسٹ کا نتیجہ: 0.464 ohm · سینٹی میٹر (Ω· سینٹی میٹر)
پتلی ویفر مزاحمتی صلاحیت (موٹائی 4 ملی میٹر سے کم یا اس کے برابر)
نمونہ کی شناخت	رینج (A)	موجودہ (mA)	تحقیقات کے درمیان اوسط فاصلہ (ملی میٹر)	قطر (ملی میٹر)	قطر کی اصلاح کا عنصر	موٹائی (ملی میٹر)	موٹائی کی اصلاح کا عنصر	وقفہ کاری کی اصلاح کا عنصر
1	0.1	17.76	1	40	4.441	0.4	0.9997	1
ٹیسٹ ڈیٹا
پوائنٹس	X(mm)	Y(mm)	فارورڈ وولٹیج (μV)	ریورس وولٹیج (μV)	مزاحمتی صلاحیت mΩ.cm	چالکتا(s/cm)	تاریخ	وقت
1	0	0	39	48	0.44	2273	2024/6/12	9:04:15
2	0	-10	38	48	0.43	2326	2024/6/12	9:05:14
3	-10	0	36	45	0.41	2439	2024/6/12	9:06:52
4	0	10	41	51	0.46	2174	2024/6/12	9:07:22
5	10	0	47	57	0.52	1923	2024/6/12	9:08:25
6	0	-14	45	56	0.51	1961	2024/6/12	9:09:11
7	-14	0	49	59	0.54	1852	2024/6/12	9:09:48
8	-14	0	43	53	0.48	2083	2024/6/12	9:10:06
9	0	14	40	50	0.45	2222	2024/6/12	9:10:38
10	14	0	42	52	0.47	2128	2024/6/12	9:11:10
11	10	10	36	46	0.41	2439	2024/6/12	9:11:41
12	10	10	47	57	0.52	1923	2024/6/12	9:12:01
13	10	10	38	49	0.44	2273	2024/6/12	9:12:23
14	10	10	36	46	0.41	2439	2024/6/12	9:13:04
ڈیٹا کا تجزیہ کریں (مزاحمت)
زیادہ سے زیادہ	کم از کم	اوسط	زیادہ سے زیادہ فیصد تبدیلی	شعاعی ناہمواری۔	اوسط فیصد تبدیلی
0.54	0.41	0.464	31.71%	27.37%

20240621141255

پلاٹینم چڑھانا سے پہلے مزاحمت:

پتلی شیٹ ریزسٹر
نمونہ کی شناخت	رینج (A)	موجودہ (mA)	تحقیقات کے درمیان اوسط فاصلہ (ملی میٹر)	قطر (ملی میٹر)	قطر کی اصلاح کا عنصر	موٹائی (ملی میٹر)	موٹائی کی اصلاح کا عنصر	وقفہ کاری کی اصلاح کا عنصر
1	0.1	44.4	1	40
ٹیسٹ ڈیٹا
پوائنٹس	X(mm)	Y(mm)	فارورڈ وولٹیج (μV)	ریورس وولٹیج (μV)	مربع مزاحمت mΩ/□	چالکتا(s/cm)	تاریخ	وقت
1	0	0	115	126	12.1		2024/6/12	9:15:57
2	0	10	109	121	11.5		2024/6/12	9:17:25
3	-10	0	81	93	8.7		2024/6/12	9:18:30
4	0	-10	94	106	10		2024/6/12	9:18:56
5	10	0	129	141	13.5		2024/6/12	9:19:55
6	14	0	136	149	14.3		2024/6/12	9:20:52
7	0	14	107	120	11.4		2024/6/12	9:21:24
8	-14	0	114	126	12		2024/6/12	9:21:58
9	0	-14	108	120	11.4		2024/6/12	9:22:27
10	10	10	114	126	12		2024/6/12	9:23:09
11	10	10	123	135	12.9		2024/6/12	9:23:32
12	10	10	94	107	10.1		2024/6/12	9:24:13
13	10	10	93	106	10		2024/6/12	9:24:32
ڈیٹا کا تجزیہ کریں (شیٹ مزاحمت)
زیادہ سے زیادہ	کم از کم	اوسط	زیادہ سے زیادہ فیصد تبدیلی		شعاعی ناہمواری۔		اوسط فیصد تبدیلی
14.3	8.7	11.52	64.37%		48.70%

20240621141758

پلاٹینم چڑھانا کے بعد مزاحمت:

پروجیکٹ: ڈراون ٹائٹینیم فائبر محسوس ہوا Thk0.4mmL40mmW40mm (نمبر: TI-PT-1-1)، porosity: 60%~70% پلاٹینم چڑھانا موٹائی: 0.5μm مزاحمتی ٹیسٹ کا نتیجہ: 0.302 ohm·cm (Ω·cm)
پتلی ویفر مزاحمتی صلاحیت (موٹائی 4 ملی میٹر سے کم یا اس کے برابر)
نمونہ کی شناخت	رینج (A)	موجودہ (mA)	تحقیقات کے درمیان اوسط فاصلہ (ملی میٹر)	قطر (ملی میٹر)	قطر کی اصلاح کا عنصر	موٹائی (ملی میٹر)	موٹائی کی اصلاح کا عنصر	وقفہ کاری کی اصلاح کا عنصر
1	0.1	17.76	1	40	4.441	0.4	0.9997	1
ٹیسٹ ڈیٹا
پوائنٹس	X(mm)	Y(mm)	فارورڈ وولٹیج (μV)	ریورس وولٹیج (μV)	مزاحمتی صلاحیت mΩ.cm	چالکتا(s/cm)	تاریخ	وقت
1	0	0	19	36	0.28	3571	2024/6/12	10:17:21
2	0	10	23	40	0.32	3125	2024/6/12	10:18:06
3	-10	0	20	37	0.29	3448	2024/6/12	10:18:31
4	0	-10	14	32	0.23	4348	2024/6/12	10:18:53
5	10	0	29	46	0.38	2632	2024/6/12	10:19:37
6	14	0	25	43	0.34	2941	2024/6/12	10:20:08
7	0	14	22	40	0.31	3226	2024/6/12	10:20:29
8	-14	0	16	33	0.25	4000	2024/6/12	10:20:56
9	0	-14	18	35	0.27	3704	2024/6/12	10:21:26
10	10	10	24	41	0.33	3030	2024/6/12	10:21:44
11	10	10	25	42	0.34	2941	2024/6/12	10:21:58
12	10	10	19	36	0.28	3571	2024/6/12	10:22:12
13	10	10	21	38	0.3	3333	2024/6/12	10:22:27
ڈیٹا کا تجزیہ کریں (مزاحمت)
زیادہ سے زیادہ	کم از کم	اوسط	زیادہ سے زیادہ فیصد تبدیلی		شعاعی ناہمواری۔		اوسط فیصد تبدیلی
0.38	0.23	0.302	65.22%		49.18%

20240621142601

پلاٹینم چڑھانا کے بعد مزاحمت:

پتلی شیٹ ریزسٹر
نمونہ کی شناخت	رینج (A)	موجودہ (mA)	تحقیقات کے درمیان اوسط فاصلہ (ملی میٹر)	قطر (ملی میٹر)	قطر کی اصلاح کا عنصر	موٹائی (ملی میٹر)	موٹائی کی اصلاح کا عنصر	وقفہ کاری کی اصلاح کا عنصر
1	0.1	44.4	1	40
ٹیسٹ ڈیٹا
پوائنٹس	X(mm)	Y(mm)	فارورڈ وولٹیج (μV)	ریورس وولٹیج (μV)	مربع مزاحمت mΩ/□	چالکتا(s/cm)	تاریخ	وقت
1	0	0	65	83	7.4		2024/6/12	10:38:41
2	0	10	67	85	7.6		2024/6/12	10:39:12
3	-10	0	67	84	7.6		2024/6/12	10:39:32
4	0	-10	60	77	6.9		2024/6/12	10:39:57
5	10	0	81	98	9		2024/6/12	10:40:31
6	14	0	70	88	7.9		2024/6/12	10:41:12
7	0	14	64	82	7.3		2024/6/12	10:41:34
8	-14	0	54	71	6.3		2024/6/12	10:42:15
9	0	-14	65	83	7.4		2024/6/12	10:42:38
10	10	10	74	92	8.3		2024/6/12	10:42:57
11	10	10	72	89	8.1		2024/6/12	10:43:12
12	10	10	60	77	6.9		2024/6/12	10:43:28
13	10	10	63	80	7.2		2024/6/12	10:43:41
ڈیٹا کا تجزیہ کریں (شیٹ مزاحمت)
زیادہ سے زیادہ	کم از کم	اوسط	زیادہ سے زیادہ فیصد تبدیلی		شعاعی ناہمواری۔		اوسط فیصد تبدیلی
9	6.3	7.53	42.86%		35.29%

20240621142854

آخر میں:

ریزسٹویٹی ڈراپ ویلیو=(پلیٹنگ سے پہلے اوسط مزاحمتی - چڑھانے کے بعد اوسط مزاحمت) / چڑھانے سے پہلے اوسط مزاحمت

مزاحمتی کمی کی قدر {{0}} (0۔{2}}.302)/0۔{5}}.9%

پلاٹینم چڑھانے سے پہلے اور بعد میں مزاحمت میں 34.9 فیصد کمی واقع ہوئی۔

ہم نے انہی شرائط کے تحت دو دوسرے گروپوں کا بھی تجربہ کیا:

ڈیٹا کا تجزیہ کریں (شیٹ مزاحمت)
زیادہ سے زیادہ	کم از کم	اوسط	زیادہ سے زیادہ فیصد تبدیلی	شعاعی ناہمواری۔	اوسط فیصد تبدیلی
0.56	0.36	0.432	55.56%	43.48%

نمونہ: BARE TI-1-2 پلاٹینم چڑھایا نہیں ہے۔

ڈیٹا کا تجزیہ کریں (شیٹ مزاحمت)
زیادہ سے زیادہ	کم از کم	اوسط	زیادہ سے زیادہ فیصد تبدیلی	شعاعی ناہمواری۔	اوسط فیصد تبدیلی
0.41	0.23	0.304	78.26%	56.25%

نمونہ: TI-PT-1-2 پلاٹینم چڑھایا ہوا 0.5μm

نتیجہ: پلاٹینم چڑھانے سے پہلے اور بعد میں مزاحمتی صلاحیت میں 29.6 فیصد کمی واقع ہوئی۔

ڈیٹا کا تجزیہ کریں (شیٹ مزاحمت)
زیادہ سے زیادہ	کم از کم	اوسط	زیادہ سے زیادہ فیصد تبدیلی	شعاعی ناہمواری۔	اوسط فیصد تبدیلی
0.52	0.35	0.434	48.57%	39.08%

نمونہ: BARE TI-1-3 پلاٹینم چڑھایا نہیں ہے۔

ڈیٹا کا تجزیہ کریں (شیٹ مزاحمت)
زیادہ سے زیادہ	کم از کم	اوسط	زیادہ سے زیادہ فیصد تبدیلی	شعاعی ناہمواری۔	اوسط فیصد تبدیلی
0.38	0.24	0.303	58.33%	45.16%

نمونہ: TI-PT-1-3 پلاٹینم چڑھایا ہوا 0.5μm

نتیجہ: پلاٹینم چڑھانا سے پہلے اور بعد میں مزاحمتی صلاحیت میں 30.2 فیصد کمی واقع ہوئی۔

ہمارے الیکٹروپلاٹنگ کے عمل کے حالات کا استعمال کرتے ہوئے پروسیس شدہ پلاٹینم لیپت ٹائٹینیم کی مزاحمتی صلاحیت 10% تک کم ہو گئی ہے، اور پلاٹینم چڑھایا موٹائی کو صرف 0.2~0.3μm تک بڑھانے کی ضرورت ہے۔ مستقبل میں، ہم مختلف حالات میں اپنے ٹیسٹ کے نتائج کو اپ ڈیٹ کرتے رہیں گے، آپ کو انتہائی پیشہ ورانہ تکنیکی مدد فراہم کریں گے، اور زندگی کے تمام شعبوں سے تعلق رکھنے والے صارفین کے تحقیقی اور ترقیاتی کاموں میں تعاون کریں گے۔

ہم الیکٹروپلاٹنگ کے عمل کو بہتر بنانے اور صارفین کو مزید پیشہ ورانہ تجاویز فراہم کرنے کے لیے مزید جامع ٹیسٹ ڈیٹا استعمال کرنے کے لیے پرعزم ہیں۔ ہم آپ کے ساتھ مستقبل کی توانائی کی تلاش کے منتظر ہیں!

ehisen میں متعلقہ مصنوعات

پلاٹینم چڑھایا نکل جھاگ

پلاٹینم چڑھایا ٹائٹینیم محسوس کیا

Pt/Ti میش الیکٹروڈز

پلاٹینم لیپت ٹائٹینیم تار